• 奈米級偏振散射光量測技術、微奈米顆粒量測技術。

• 光子晶體與微奈米光機電元件之設計與製造、光波導設計與應用、積體光學。

• 超常材料、液晶材料光電性質與調變技術之應用。

• 振動量測與訊號分析、振動動態穩定性分析、智慧型結構損傷探測。

• 微奈米製程技術、精密製造。

  Research Interests:

• Polarized light-scattering measurement, Nanoparticle on wafer measurement, Biomedical electro-optical measurement technology

• Design and fabrication of photonic crystal electro-optical devices, Theoretical analysis and experiment of optical waveguide, Integrated optics

• Metamaterials, Application of optoelectronic properties and modulation technology of liquid crystal

• Vibration analysis and measurement, Dynamic stability analysis, Smart structural damage detection

• Digital signal process, Wavelets analysis

• Micro/nano-fabrication technology, Precision manufacturing

光子晶體

如下圖所示，提出全世界第一個可用於可見光頻段的奈米級光子晶體Mach-Zehnder干涉器，本論文應用光學理論來設計元件，然後使用時域有限差分法來模擬元件特性，之後再利用電子束微影技術和乾蝕刻製程將此奈米級元件製造出來，並架設精密光學系統來量測其光學特性。透過傳輸頻譜的量測，得知其傳輸特性與數值理論計算相當符合，且此干涉器可用於可見光頻段、尺寸小、光干涉特性良好。

晶圓表面特徵的量測與標準建立一直是半導體業界急需的計量技術，而晶圓表面特徵其中包含附著於晶圓表面的奈米微粒(金屬、非金屬)、表面粗糙度、表面薄膜、線距等在製程中均是非常重要的量測參數。 本論文因此設計發展出一套奈米級的晶圓表面特徵量測系統，此套系統可以同時四個角度旋轉用以量測不同的晶圓表面特徵所發出的散射光，經過散射光偏振分析後即可得知晶圓表面奈米級特徵的尺寸大小與分佈特性等。目前此系統可以量測到晶圓表面上奈米微粒的直徑範圍為50 nm ~ 350 nm，表面粗糙度為Ra= 10 nm ~ 5000 nm，表面薄膜厚度範圍為2 nm ~ 50 nm，並可承載2 ~ 12吋的晶圓進行量測。

本研究室位於淡江大學工學館G106室，研究室大門：

 三維奈米光子噴流量測系統

 全場偏振散射光量測系統